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　　美光公司(sī)在华销售的产品未通过网络安全审查

　　据(jù)网(wǎng)信办(bàn)消息十指不沾阳春水下一句是什么，十指不沾阳春水是什么意思(xī)，日前，网络安(ān)全审查办公室依法对美光公司在华销售产品进(jìn)行了网(wǎng)络(luò)安(ān)全审查。

　　审查(chá)发现，美光(guāng)公司产(chǎn)品存(cún)在较严重网络安全(quán)问题隐患(huàn)，对我国(guó)关键(jiàn)信息基(jī)础(chǔ)设施供应(yīng)链造成重大安全风(fēng)险(xiǎn)，影响我国国家安全(quán)。为此，网(wǎng)络安全审查办公室依法作出不予通过网络安全审查的结论。按照(zhào)《网络安(ān)全法》等法律法(fǎ)规，我国内关键信息(xī)基十指不沾阳春水下一句是什么，十指不沾阳春水是什么意思础(chǔ)设施(shī)的运营者应停止采购美光公司产品。

　　此(cǐ)次对美光(guāng)公司产品(pǐn)进行网络安(ān)全(quán)审查，目的是防(fáng)范产品网络安全(quán)问题危害(hài)国家关键信息基(jī)础(chǔ)设施安全(quán)，是维护(hù)国家安全的必要措(cuò)施。中国坚(jiān)定(dìng)推(tuī)进高水(shuǐ)平对外(wài)开放(fàng)，只要遵守中国法律法规要求，欢迎各(gè)国企(qǐ)业、各类平台产品服务进(jìn)入中(zhōng)国市场(chǎng)。

　　3月31日，中(zhōng)国网信网发(fā)文称，为保(bǎo)障关键信息基础(chǔ)设施(shī)供应链安全(quán)，防范产品问题隐患造成网络安全(quán)风(fēng)险(xiǎn)，维(wéi)护国家安全，依据《中(zhōng)华人民共和(hé)国国家安全(quán)法》《中(zhōng)华人民共和国(guó)网络安全法》，网(wǎng)络安全审查办公室按(àn)照《网络(luò)安全审查办法》，对美光公司（Micron）在(zài)华销(xiāo)售的产品实施网络安全审查。

　　美光是美国的存储芯片行业龙头，也(yě)是全球(qiú)存储芯片巨头(tóu)之一(yī)，2022年收入来自中国市(shì)场收入从(cóng)此前高峰57％降至2022年约11％。根据(jù)市(shì)场咨询(xún)机构 Omdia（IHS Markit）统(tǒng)计，2021 年(nián)三星(xīng)电(diàn)子、 铠(kǎi)侠、西部数据(jù)、SK 海(hǎi)力(lì)士、美光(guāng)、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场(chǎng)份额(é)约为 96.76％，三星(xīng)电子(zi)、 SK 海力士、美(měi)光在全球 DRAM （内存）市场份额约为 94.35％。

　　A股上市公司中，江波龙(lóng)、佰(bǎi)维存储等公司披露(lù)过美光等(děng)国际存储厂商为(wèi)公司(sī)供应商。

　　美光(guāng)在江波龙采(cǎi)购占比已(yǐ)经(jīng)显著(zhù)下降(jiàng)，至(zhì)少已经不是主要大供(gōng)应商(shāng)。

　　公(gōng)告显(xiǎn)示， 2021年美光位列江波龙第一(yī)大存储晶圆供应商，采(cǎi)购约31亿(yì)元，占比33.52％；2022年，江波龙第(dì)一大、第(dì)二大和第三大供(gōng)应商采购金额占比分别是(shì)26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙已经(jīng)在存储(chǔ)产业链上(shàng)下(xià)游建(jiàn)立国内外广泛(fàn)合(hé)作。2022年年(nián)报显示，江波龙(lóng)与三星(xīng)、美光、西(xī)部数(shù)据(jù)等主要存储(chǔ)晶圆原厂签(qiān)署了长期合约，确保存储晶(jīng)圆(yuán)供应的稳定性，巩(gǒng)固公司(sī)在下游市场的(de)供应(yīng)优势，公司(sī)也(yě)与国内(nèi)国产存储(chǔ)晶(jīng)圆原厂武(wǔ)汉长江(jiāng)存储、合肥长(zhǎng)鑫保持良好的合作。

　　有券商此前就分(fēn)析，如果美光在中(zhōng)国(guó)区(qū)销售受(shòu)到(dào)限制(zhì)，或将导致下游客户转十指不沾阳春水下一句是什么，十指不沾阳春水是什么意思而采(cǎi)购国外三星、 SK海力士，国(guó)内长江存储(chǔ)、长鑫存储(chǔ)等竞对产(chǎn)品(pǐn)

　　分析称，长存、长鑫的上游(yóu)设备厂或从中受益。存储(chǔ)器的生产(chǎn)已经演进到1Xnm、1Ynm甚(shèn)至1Znm的工(gōng)艺。另外(wài)NAND Flash现在已经进(jìn)入(rù)3D NAND时代，2 维到3维的结(jié)构转变使(shǐ)刻蚀(shí)和薄膜成为最关键、最大(dà)量的(de)加工设备。3D NAND每层均需要经过薄(báo)膜沉积(jī)工(gōng)艺步骤(zhòu)，同(tóng)时刻蚀目前前沿要刻到 60：1的深孔，未来可能会更深的(de)孔或者沟槽(cáo)，催生更多设备需求。据东京电子披露，薄膜沉(chén)积设备及刻蚀(shí)占3D NAND产线资(zī)本开支合计为75％。自长江存储被加入美(měi)国限制名单，设备(bèi)国产化进程加速，看好(hǎo)拓荆(jīng)科技（薄膜(mó)沉(chén)积）等(děng)相关公司份额提升，以及存储业(yè)务(wù)占比(bǐ)较高的(de)华海清(qīng)科（CMP）、盛美上(shàng)海(hǎi)（清洗）等收入增长(zhǎng)。

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